Chemiczne osadzanie z fazy gazowej ze wspomaganiem plazmowym (PECVD) (Q1659433): Difference between revisions

Latest revision as of 03:13, 27 December 2023

No description defined

Language	Label	Description	Also known as
English	Chemiczne osadzanie z fazy gazowej ze wspomaganiem plazmowym (PECVD)	No description defined	Metoda CVD ze wspomaganiem plazmowym PECVD Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD)

a1000001235827

0 references

0 references

P56343T30806

0 references

@@ aliases / en / 0 / aliases / en / 0 @@
+Metoda CVD ze wspomaganiem plazmowym
@@ aliases / en / 1 / aliases / en / 1 @@
+PECVD
@@ aliases / en / 2 / aliases / en / 2 @@
+Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
@@ aliases / pl / 0 / aliases / pl / 0 @@
+Metoda CVD ze wspomaganiem plazmowym
@@ aliases / pl / 1 / aliases / pl / 1 @@
+PECVD
@@ aliases / pl / 2 / aliases / pl / 2 @@
+Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
@@ Property / National Library Identifier @@
+a1000001235827
@@ Property / National Library Identifier: a1000001235827 / rank @@
+Normal rank
@@ Property / Related Subject @@
+Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD)
@@ Property / Related Subject: Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD) / rank @@
+Normal rank
@@ Property / Type @@
+Unknown
@@ Property / Type: Unknown / rank @@
+Normal rank
@@ Property / Version @@
+P56343T30806
@@ Property / Version: P56343T30806 / rank @@
+Normal rank