Osadzanie warstw atomowych (ALD) (Q359767): Difference between revisions

@@ aliases / en / 0 / aliases / en / 0 @@
+ALD
@@ aliases / en / 1 / aliases / en / 1 @@
+Atomic layer deposition (ALD)
@@ aliases / pl / 0 / aliases / pl / 0 @@
+ALD
@@ aliases / pl / 1 / aliases / pl / 1 @@
+Atomic layer deposition (ALD)
@@ Property / National Library Identifier @@
+a0000003854013
@@ Property / National Library Identifier: a0000003854013 / rank @@
+Normal rank
@@ Property / Related Subject @@
+Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD)
@@ Property / Related Subject: Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD) / rank @@
+Normal rank
@@ Property / Related Subject @@
+Cienkie warstwy (technika)
@@ Property / Related Subject: Cienkie warstwy (technika) / rank @@
+Normal rank
@@ Property / Type @@
+Unknown
@@ Property / Type: Unknown / rank @@
+Normal rank
@@ Property / Version @@
+P33092T52305
@@ Property / Version: P33092T52305 / rank @@
+Normal rank